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표면 화학 분석－X선 광전자 분광법－전하 제어와 전하 교정에 사용하는 방법
| 분야 | 금속(D) > 분석 | ||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 적용 범위 | 이 규격은 X선 광전자 분광법(분석 결과와 함께 보고해야 함.)으로 시료를 절연시키기 위해 코어 레벨 결속 에너지를 측정할 때 전하 제어와 전하 교정 방법을 설명하는 최소한의 정보를 규정한다. 또한 결 속 에너지를 측정할 때 전하 제어와 전하 교정에 유용한 것으로 밝혀진 방법에 관한 정보도 제 공한다. | ||||||||
| 표준명(영어) | Surface chemical analysis－X-ray photoelectron spectroscopy－Reporting of methods used for charge control and charge correction | ||||||||
| 국제표준분류(ICS)코드 |
71.040.40 : 화학 분석 |
||||||||
| 국제표준 부합화 |
ISO 19318:2003(IDT) ※ IDT:일치, MOD:수정, NEQ:일치하지 않음 |
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| 고시기관(고시번호) | (제05-1007 호) | ||||||||
| 고시사유 | |||||||||
| KS심사기준 |
|
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| 페이지수 | 10 | ||||||||
| 표준번호 | 표준명 | 고시일 | 상태 | 고시사유 | 비고 |
|---|---|---|---|---|---|
KS D ISO 19318(2020 확인)  |
표면 화학 분석－X선 광전자 분광법－전하 제어와 전하 교정에 사용하는 방법 | 2020-12-23 | 확인(표준) | 5년도래 확인표준 | |
| KS D ISO 19318(2015 확인) |
표면 화학 분석－X선 광전자 분광법－전하 제어와 전하 교정에 사용하는 방법 | 2015-12-31 | 확인(구판) | ||
| KS D ISO 19318(2010 확인) |
표면 화학 분석－X선 광전자 분광법－전하 제어와 전하 교정에 사용하는 방법 | 2010-12-10 | 확인(구판) | ||
| KS D ISO 19318 |
표면 화학 분석－X선 광전자 분광법－전하 제어와 전하 교정에 사용하는 방법 | 2005-12-28 | 제정(구판) | ||
확인 및 폐지 고시된 표준에 대해서는 마지막 제정 또는 개정 표준을 구입하시면 됩니다. |
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| No. | 표준번호 | 표준명 | 고시일 | 언어 | 제공형태 | 판매가격 | |
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