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분야 | ISO/TC 202/SC 3 : Analytical electron microscopy |
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적용범위 | ISO 20263:2017 specifies a procedure for the determination of averaged interface position between two different layered materials recorded in the cross-sectional image of the multi-layered materials. It is not intended to determine the simulated interface of the multi-layered materials expected through the multi-slice simulation (MSS) method. This document is applicable to the cross-sectional images of the multi-layered materials recorded by using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM) and the cross-sectional elemental mapping images by using an energy dispersive X-ray spectrometer (EDS) or an electron energy loss spectrometer (EELS). This document is also applicable to the digitized image recorded on an image sensor built into a digital camera, a digital memory set in the PC or an imaging plate and the digitalized image converted from an analogue image recorded on the photographic film by an image scanner. |
국제분류(ICS)코드 |
37.020 : 광학기기
71.040.50 : 물리화학적인 분석 방법 |
페이지수 | 45 |
Edition | 1 |
No. | 표준번호 | 표준명 | 발행일 | 상태 |
---|---|---|---|---|
1 | ISO 20263:2024 | Microbeam analysis — Analytical electron microscopy — Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials | 2024-11-06 | 표준 |
2 | ISO 20263:2017 | Microbeam analysis — Analytical electron microscopy — Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials | 2017-12-01 | 구판 |
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